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申请/专利权人：美题隆公司
申请日：2022-10-04
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118265895A
主分类号：G01J5/02
分类号：G01J5/02;G01J5/04;G01J5/20;H01L31/09;B81C1/00;B81B7/00;B23K1/005
优先权：["20211005 US 63/252,327"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本文公开了用于形成窗腔晶片的技术和或系统，其包括通过以下步骤制造窗口晶片：提供具有两个面的窗口晶片基板；在窗口晶片基板的一个或多个面上刻蚀基准点；以及在窗口晶片基板的一个或多个面上施加一个或多个光学涂层。之后，通过以下步骤制造与窗口晶片分离的隔垫晶片：提供具有两个面的隔垫晶片基板；以及在隔垫晶片基板中形成通孔阵列。之后，将隔垫晶片键合至窗口晶片以形成窗腔晶片，以及在窗腔晶片的表面形成离散的金属框架。
主权项：1.一种窗腔晶片，包括：窗口晶片，所述窗口晶片包括窗口晶片基板和一个或多个设置在所述窗口晶片基板的一个或多个面上的光学涂层；以及隔垫晶片，所述隔垫晶片包括隔垫晶片基板，其中，所述隔垫晶片晶片键合至所述窗口晶片以形成所述窗腔晶片，并且所述窗腔晶片包括金属框架。
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