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申请/专利权人：季华实验室
申请日：2024-04-17
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118070563B
主分类号：G06F30/20
分类号：G06F30/20;G06F119/08
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权;2024.06.11#实质审查的生效;2024.05.24#公开
摘要：本申请属于激光烧蚀的技术领域，公开了一种变形几何激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取表面设置有镀层模型的相变材料模型，设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数，根据激光烧蚀过程的传热特征和几何结构变形特征，设置固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场，基于第一材料参数、第二材料参数、固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场，对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟，得到激光烧蚀模拟分析结果，通过固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场，对激光烧蚀过程进行模拟，提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。
主权项：1.一种变形几何激光烧蚀模拟方法，用于对相变材料的激光烧蚀过程进行分析，其特征在于，包括步骤：获取表面设置有镀层模型的相变材料模型；设置所述镀层模型的材料参数和所述相变材料模型的材料参数，分别记为第一材料参数和第二材料参数；根据激光烧蚀过程的传热特征和几何结构变形特征，设置固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场；基于所述第一材料参数、所述第二材料参数、所述固体传热物理场和所述基于阶跃函数改进的变形几何场，对表面设置有所述镀层模型的所述相变材料模型进行激光烧蚀模拟，得到激光烧蚀模拟分析结果。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 季华实验室 变形几何激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质
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