首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种可见光催化解聚木质素的方法 

申请/专利权人:深圳中农秸美科技股份有限公司

申请日:2023-05-23

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN116693581B

主分类号:C07G1/00

分类号:C07G1/00;B01J27/24;B01J35/39;B01J35/61;B01J35/50;B01J37/08

优先权:["20221231 CN 2022117370265"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2024.03.22#专利申请权的转移;2023.09.22#实质审查的生效;2023.09.05#公开

摘要:本发明属于光催化材料技术领域,具体涉及一种光催化解聚木质素的方法。反应溶剂乙腈加入在反应器中,并加入过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化剂、木质素反应底物,在可见光源激发下,进行木质素反应底物的氧化裂解。本发明的催化体系使木质素温和条件下同时实现C‑C和C‑O键的断裂,并提高芳烃类产物的生成效率。

主权项:1.一种光催化解聚木质素的方法,包括下列步骤:反应溶剂加入在反应器中,并加入过渡金属掺杂缺陷型g-C3N4光催化剂、木质素反应底物,在可见光源激发下,进行木质素反应底物的氧化裂解;所述反应溶剂为乙腈;所述光源选自氙灯、自然光、LED灯、汞灯和卤钨灯中的一种或几种,λ>400nm;光强是100-600mWcm-2;所述过渡金属掺杂缺陷型g-C3N4光催化剂为片层结构,过渡金属掺杂后以原子分散的形式掺杂于片层结构中,通过酸化处理在典型g-C3N4的CN结构中刻蚀出C缺陷位结构并引入过渡金属M原子嵌于其中,形成稳定的M-N键,所述M选自Fe和Cu;所述过渡金属掺杂缺陷型g-C3N4光催化剂的制备方法如下:1在室温下将可溶性过渡金属盐和三聚氰胺按照质量比1:1000~1:20的比例混合均匀加至乙醇和水的混合液中溶解;乙醇和水的体积比为1:1~1:4;2将混合物经酸化处理后,离心后取滤饼,滤饼40~120℃真空干燥处理,并用玛瑙研钵研磨至粉末状;所述酸化处理为,将样品经溶剂溶解后置于18%~20%酸性溶液中酸化4~12h,所述酸性溶液选自盐酸、硫酸、硝酸溶液中的至少一种。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳中农秸美科技股份有限公司 一种可见光催化解聚木质素的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。