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一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用 

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申请/专利权人:明士(北京)新材料开发有限公司

摘要:本发明公开了一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用。本发明化学增幅型正性聚酰亚胺涂层胶,其特征在于,该化学增幅型正性聚酰亚胺涂层胶由如下质量份的组份制成:权利要求5或6部分取代的含酚羟基聚酰亚胺树脂100份;光致产酸剂1~30份;光敏促进剂0~10份;助粘剂0~10份;有机溶剂Ⅱ200~500份。它的制备方法,包括如下步骤:在黄光环境和惰性气体保护中,将部分取代的含酚羟基聚酰亚胺树脂溶解于有机溶剂Ⅱ中,搅拌形成均相有机溶液;然后,依次加入光致产酸剂、光敏促进剂和助粘剂,搅拌形成均相溶液,即得到化学增幅型正性聚酰亚胺涂层胶。本发明化学增幅型正性聚酰亚胺涂层胶应用于光电平面显示、半导体芯片制造与封装领域中。

主权项:1.一种部分取代的含酚羟基聚酰亚胺树脂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、在封端剂存在的条件下,芳香族四酸二酐与含酚羟基的芳香族二胺在有机溶剂Ⅰ中进行聚合反应,得到含酚羟基的聚酰胺酸树脂溶液;S2、向所述含酚羟基的聚酰胺酸树脂溶液中加入带水剂和有机碱,进行酰亚胺反应,得到含酚羟基的聚酰亚胺树脂;S3、将所述含酚羟基的聚酰亚胺树脂、羟基保护剂和催化剂于所述有机溶剂Ⅰ中搅拌;然后分散于水中,经过滤,即得到部分取代的含酚羟基聚酰亚胺树脂。

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