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申请/专利权人：中国核电工程有限公司
摘要：本发明涉及一种后处理工艺钚价态的分析系统，所述后处理工艺钚价态的分析系统包括：光源，用于发射入射光；光学器件系统，用于对所述光源发射的入射光的波段范围进行过滤选择；双光束光纤系统，用于将过滤后的入射光分为两路；液芯波导毛细管池，用于盛放待测溶液和参比溶液；光谱仪，用于采集光谱数据；数据处理与计算机系统，用于对所述光谱数据进行分析处理。本发明提供一种非破坏性、不需预处理分离、可以直接进行料液中不同价态的钚离子含量分析；手套箱的布置方式可以将光源、光谱仪等关键部件置于手套箱外，既能避免关键部件被待测样品放射性沾污，又易于装置检维修。
主权项：1.一种后处理工艺钚价态的分析系统，其特征在于，包括：光源1，用于发射入射光；光学器件系统2，用于对所述光源1发射的入射光的波段范围进行过滤选择；双光束光纤系统，用于将过滤后的入射光分为两路；液芯波导毛细管池，用于盛放待测溶液和参比溶液；光谱仪13，用于采集光谱数据；数据处理与计算机系统14，用于对所述光谱数据进行分析处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国核电工程有限公司 一种后处理工艺钚价态的分析系统
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