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申请/专利权人：深圳市大疆创新科技有限公司

申请日：2020-08-25

公开（公告）日：2024-05-14

公开（公告）号：CN114503007B

专利技术分类：..扫描系统[2006.01]

专利摘要：一种激光扫描装置100和激光扫描系统1000。激光扫描装置100包括光源10、第一光折射元件20，以及第二光折射元件30或光反射元件40，光源10发出的光线依次通过第一光折射元件20，以及第二光折射元件30或者光反射元件40后出射，第一光折射元件20以及第二光折射元件30或者光反射元件40均能够转动以改变光线的出射角度。其中，激光扫描装置100具有第一扫描模式和第二扫描模式，激光扫描装置100在第一扫描模式下的视场角不同于在第二扫描模式下的视场角；和或激光扫描装置100在第一扫描模式下的点云覆盖均匀度不同于在第二扫描模式下的点云覆盖均匀度；和或激光扫描装置100在第一扫描模式下的点云覆盖完整度不同于在第二扫描模式下的点云覆盖完整度。

专利权项：1.一种激光扫描装置，其特征在于，所述激光扫描装置包括光源、第一光折射元件，以及光反射元件，所述光源发出的光线依次通过所述第一光折射元件，以及所述光反射元件后出射，所述第一光折射元件以及所述光反射元件均能够转动以改变光线的出射角度；其中，所述激光扫描装置具有第一扫描模式和第二扫描模式，所述第一扫描模式和所述第二扫描模式对应不同的扫描图案，以适用于对水平方向上的分辨率以及垂直方向上的分辨率具有相应要求的场景，在所述第一扫描模式下，所述第一光折射元件的转动速度大于所述光反射元件的转动速度，且水平方向的分辨率取决于所述第一光折射元件和所述光反射元件的转动速度，垂直方向的分辨率取决于所述光源的重复频率；在所述第二扫描模式下，所述第一光折射元件的转动速度等于所述光反射元件的转动速度，且水平方向的分辨率取决于所述光源的重复频率，垂直方向的分辨率取决于所述第一光折射元件和所述光反射元件的转动速度，且在同样的采样率以及同样的时间的基础上：所述激光扫描装置在所述第一扫描模式下的视场角不同于在所述第二扫描模式下的视场角；和或所述激光扫描装置在所述第一扫描模式下的点云覆盖均匀度不同于在所述第二扫描模式下的点云覆盖均匀度；和或所述激光扫描装置在所述第一扫描模式下的点云覆盖完整度不同于在所述第二扫描模式下的点云覆盖完整度。

百度查询： 深圳市大疆创新科技有限公司 激光扫描装置和激光扫描系统