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申请/专利权人：杭州华遨科技有限公司
申请日：2022-05-10
公开（公告）日：2022-08-09
公开（公告）号：CN114871572A
专利技术分类：..扫描系统，例如激光束相对于激光头运动的装置[2014.01]
专利摘要：本申请涉及一种激光扫描控制方法，该方法包括：获取能量掩膜，该能量掩膜基于待扫描物体的截面图案与工艺参数生成；该能量掩膜包括承载待扫描物体的光学平台上每个像素点对应的激光能量密度和对应的坐标；基于该能量掩膜，将光学平台上每个像素点的几何坐标与该像素点对应的待扫描物体截面位置需要的激光能量密度相结合，使光学平台上任意一个像素点位置均能够按照能量掩膜所赋予的能量密度值进行激光扫描，实现激光能量密度调节与矢量扫描路径规划的完全解耦，解决相关技术中存在的无法实现与矢量路径规划解耦的动态能量密度扫描控制的问题。
专利权项：1.一种激光扫描控制方法，其特征在于，所述方法包括：获取能量掩膜，所述能量掩膜基于待扫描物体的截面图案与工艺参数生成；所述能量掩膜包括承载所述待扫描物体的光学平台上每个像素点对应的激光能量密度和对应的坐标；基于所述能量掩膜，对所述待扫描物体进行扫描。
百度查询： 杭州华遨科技有限公司 激光扫描控制方法、装置及激光扫描系统
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