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申请/专利权人:西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
摘要:本发明公开了一种控制硅片TDH的设备和方法,所述控制硅片TDH的设备包括干燥箱和打包装置,所述干燥箱包括壳体、第一输送装置、干燥装置和第一湿度检测装置,所述壳体的两端设置有进料口和出料口,所述第一输送装置穿过所述壳体,所述第一输送装置的两端分别位于所述进料口和出料口处,所述第一输送装置上能够放置多个片盒,所述干燥装置沿着所述第一输送装置的输送方向设置,所述第一湿度检测装置能够检测所述出料口处的片盒的湿度,所述打包装置的进口连接所述出料口,所述打包装置能够打包所述出料口输出的所述片盒。本发明提供的控制硅片TDH的设备和方法能够有效减少硅片出现TDH现象。
主权项:1.一种控制硅片TDH的设备,其特征在于,包括干燥箱和打包装置3,所述干燥箱包括壳体1、第一输送装置2、干燥装置和第一湿度检测装置,所述壳体1的两端设置有进料口和出料口,所述第一输送装置2穿过所述壳体1,所述第一输送装置2的两端分别位于所述进料口和出料口处,所述第一输送装置2上能够放置多个片盒4,所述干燥装置沿着所述第一输送装置2的输送方向设置,所述第一湿度检测装置能够检测所述出料口处的片盒4的湿度,所述打包装置3的进口连接所述出料口,所述打包装置3能够打包所述出料口输出的所述片盒4。
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百度查询: 西安奕斯伟硅片技术有限公司 西安奕斯伟材料技术有限公司 控制硅片TDH的设备和方法
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