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申请/专利权人：珠海格力电器股份有限公司
申请日：2018-10-29
公开（公告）日：2019-01-01
公开（公告）号：CN109112636A
专利技术分类：..反应室；其所用材料的选择[2006.01]
专利摘要：本发明涉及半导体制造设备技术领域，公开一种扩散炉管及扩散炉，扩散炉管包括：炉管本体，内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室，工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区；至少一部分位于工艺腔室内的气体输送部件，用于将扩散气体输送至炉管本体内；气体输送部件位于工艺腔室内的部分包括预热段和排气段，排气段上设有至少一个排气孔组，每一个排气孔组包括至少一个排气孔。上述扩散炉管可以用于缓解或消除炉管进气口处的气流紊乱现象。
专利权项：1.一种扩散炉管，其特征在于，包括：炉管本体，内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室，所述工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区；至少一部分位于所述工艺腔室内的气体输送部件，用于将扩散气体输送至所述炉管本体内；所述气体输送部件位于所述工艺腔室内的部分包括预热段和排气段，所述排气段上设有至少一个排气孔组，每一个所述排气孔组包括至少一个排气孔。
百度查询： 珠海格力电器股份有限公司 扩散炉管及扩散炉
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