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墓碑以及墓碑制造方法专利

发布时间:2018-12-20 11:08:37 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 墓碑以及墓碑制造方法

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申请/专利权人:邹席新

申请日:2016-04-21

公开(公告)日:2017-12-08

公开(公告)号:CN105715096B

专利技术分类:

专利摘要:本发明提供了一种墓碑以及墓碑制造方法,该墓碑包括碑体以及采用透明材料制成的封盖,碑体具有用于撰写碑文的板面,封盖盖装在碑体上,且覆盖碑体的具有碑文的板面。该墓碑制作方法包括制作碑体以及封盖,其中,封盖采用透明材质制成;在碑体的表面撰写碑文;将封盖盖装在碑体的具有碑文的表面上。该墓碑结构简单合理,加工制造方便,制造成本低,同时,使用过程中,墓碑上的碑文受到封盖的保护作用,其保存的时间长,即使处于长期的日晒雨淋的环境下也能够长时间保存,不易因风化而掉落,使用寿命长。

专利权项:一种墓碑,其特征在于,包括碑体以及采用透明材料制成的封盖,所述碑体具有用于撰写碑文的板面,所述封盖盖装在所述碑体上,且覆盖所述碑体的具有碑文的所述板面;封盖采用透明的玻璃材质制成;所述碑体上设置有凹槽,所述凹槽的槽底设置为所述用于撰写碑文的板面,所述封盖位于所述凹槽内;所述碑体包括两个相对设置的第一矩形板面以及包括四个第一矩形周面,两个所述第一矩形周面为一组且相对设置,相邻的两个所述第一矩形周面相连接,四个所述第一矩形周面位于两个所述第一矩形板面之间,且四个所述第一矩形周面分别连接于对应的所述第一矩形板面,任一所述第一矩形板面设置为用于撰写碑文的所述板面;位于所述碑体上部的第一矩形周面为斜面,所述斜面向所述碑体上与所述碑文相背的一侧倾斜。

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