恭喜株式会社日立高新技术藤井祐介获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社日立高新技术申请的专利粒子线治疗系统以及磁共振成像装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114340729B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080062050.6,技术领域涉及:A61N5/10;该发明授权粒子线治疗系统以及磁共振成像装置是由藤井祐介;青木学;梅泽真澄设计研发完成,并于2020-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本粒子线治疗系统以及磁共振成像装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统,能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。具有:床24,其搭载照射目标26;照射装置21,其朝向照射目标照射粒子线;以及磁共振成像装置150,其拍摄照射对象25的图像。磁共振成像装置150具备:磁铁50,其在配置有照射目标26的摄像空间55产生静磁场;以及磁轭60,其配置于摄像空间55以外,供磁铁50产生的磁场的磁通通过。从摄像空间55观察,照射装置21配置于磁轭60的背面侧,从设置于磁轭60的贯通孔或设置于磁轭的间隙向照射目标照射粒子线。粒子线进入摄像空间的方向与由磁铁对摄像空间施加的静磁场的朝向交叉。
本发明授权粒子线治疗系统以及磁共振成像装置在权利要求书中公布了:1.一种粒子线治疗系统,其特征在于,具有:床,其搭载照射对象;照射装置,其朝向所述照射对象内的照射目标照射粒子线;旋转机架,该旋转机架搭载所述照射装置并在所述床的周围转动;以及磁共振成像装置,其拍摄所述照射对象的图像,所述磁共振成像装置包括静磁场产生装置,所述静磁场产生装置具备:磁铁,其在配置有所述照射目标的摄像空间产生静磁场;以及磁轭,其配置于所述摄像空间以外,供所述磁铁产生的磁场的磁通通过,从所述摄像空间观察,所述照射装置配置于所述磁轭的背面侧,从设置于所述磁轭的贯通孔或设置于所述磁轭的间隙向所述照射目标照射所述粒子线,所述粒子线进入所述摄像空间的方向与由所述磁铁对所述摄像空间施加的静磁场的朝向交叉,所述磁共振成像装置配置于所述旋转机架的内侧的空间,所述照射装置具备配置在所述粒子线的中心轴上并检测所述粒子线的粒子线监视器,所述粒子线监视器配置在所述磁轭与所述旋转机架之间。
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