恭喜华芯半导体研究院(北京)有限公司尧舜获国家专利权
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龙图腾网恭喜华芯半导体研究院(北京)有限公司申请的专利新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112467517B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011270985.1,技术领域涉及:H01S5/183;该发明授权新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法是由尧舜;张颜儒;杨默;戴伟;常露;王青;李军;张杨设计研发完成,并于2020-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法,包括依次生长的缓冲层、N型布拉格反射镜、第一量子阱、P型布拉格反射镜、设置在缓冲层远离N型布拉格反射镜的至少部分表面上的第一反向电极、设置在P型布拉格反射镜远离N型布拉格反射镜的表面的边缘的正向电极、设置在正向电极以及正向电极未覆盖的P型布拉格反射镜的表面上的第二量子阱以及设置在第二量子阱远离P型布拉格反射镜的表面的边缘的第二反向电极。通过在最外层生长第二量子阱结构,使得对激光器件的调制不再是对激光器添加电激励,而是通过改变第二量子阱结构的特性来控制激光的出射,大大减小了激光器在接通电源时的驰豫振荡的影响,从而提高了芯片的性能。
本发明授权新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种新型调制高功率VCSEL芯片,其特征在于,包括:依次生长的缓冲层、N型布拉格反射镜、第一量子阱和P型布拉格反射镜;第一反向电极,所述第一反向电极设置在所述缓冲层远离所述N型布拉格反射镜的至少部分表面上;正向电极,所述正向电极为环形,且所述正向电极设置在所述P型布拉格反射镜远离所述N型布拉格反射镜的表面的边缘;第二量子阱,所述第二量子阱设置在所述正向电极以及所述正向电极未覆盖的P型布拉格反射镜的表面上;第二反向电极,所述第二反向电极为环形,且所述第二反向电极设置在所述第二量子阱远离所述P型布拉格反射镜的表面的边缘;所述第二反向电极的环的宽度为3~10μm;所述正向电极的环的宽度为3~10μm。
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