恭喜重庆光谱新材料科技有限公司李承龙获国家专利权
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龙图腾网恭喜重庆光谱新材料科技有限公司申请的专利聚乙烯醇聚合物薄膜及其制备方法、偏光膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116376199B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310131367.6，技术领域涉及：C08L29/04；该发明授权聚乙烯醇聚合物薄膜及其制备方法、偏光膜及其制备方法是由李承龙;古文正;张飞雄;徐勇彪;吕新坤;姜维;王宏星设计研发完成，并于2023-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚乙烯醇聚合物薄膜及其制备方法、偏光膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及偏光膜技术领域，公开了一种聚乙烯醇聚合物薄膜及其制备方法、偏光膜及其制备方法。将聚乙烯醇聚合物坯膜经过至少n个干燥辊Sn进行干燥，得到所述聚乙烯醇聚合物薄膜，其中，n≥2，n个干燥辊Sn的表面粗糙度Ra各自独立地为0.025‑1.6μm，聚乙烯醇聚合物坯膜在所述干燥辊Sn的表面的停留时间tn与所述干燥辊Sn的辊温Tn满足以下关系：200≤Tn×tn≤1200，60℃≤Tn≤100℃。该聚乙烯醇聚合物薄膜在输送过程中，具有更少的斑纹缺陷，由聚乙烯醇薄膜经过湿法工艺，制造的偏光膜具有更少的色斑缺陷。
本发明授权聚乙烯醇聚合物薄膜及其制备方法、偏光膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种聚乙烯醇聚合物薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将聚乙烯醇聚合物坯膜经过至少n个干燥辊Sn进行干燥，得到所述聚乙烯醇聚合物薄膜，所述聚乙烯醇聚合物坯膜的含湿量为12-30wt%；其中，n≥2；所述n个干燥辊Sn的表面粗糙度Ra各自独立地为0.025-1.6μm；所述聚乙烯醇聚合物坯膜在所述干燥辊Sn的表面的停留时间tn与所述干燥辊Sn的辊温Tn满足以下关系：400≤Tn×tn≤1000；60℃≤Tn≤100℃；所述干燥使得所述聚乙烯醇聚合物坯膜的含湿量降低至8-11wt%；所述方法还包括对所述聚乙烯醇聚合物薄膜进行再干燥处理的步骤，所述再干燥使得经干燥处理得到的聚乙烯醇聚合物薄膜的含湿量降低至2-5wt%。
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