恭喜浙江奥首材料科技有限公司侯军获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江奥首材料科技有限公司申请的专利InP晶圆切割保护液、制备方法及清洗液和清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117070272B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310778540.1，技术领域涉及：C10M173/02；该发明授权InP晶圆切割保护液、制备方法及清洗液和清洗方法是由侯军;贺剑锋;褚雨露;张楠设计研发完成，并于2023-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本InP晶圆切割保护液、制备方法及清洗液和清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于InP晶圆的切割保护液、其制备方法、使用方法和专用于其的清洗液和清洗方法等，所述保护液包含侧链苯基树脂和复合乳化剂，具有优异的切割保护性能；所述清洗液通过特定表面活性剂和缓蚀剂的使用，能够专用于所述切割保护液的清洗，残留膜小，且能够抑制电极腐蚀。所述切割保护液和清洗液等技术方案可应用到半导体加工领域中，具有广泛的应用前景和推广价值。
本发明授权InP晶圆切割保护液、制备方法及清洗液和清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种用于InP晶圆的切割保护液，所述切割保护液以质量份计，包括如下组分：侧链苯基树脂10-40份复合乳化剂0.5-5份流平剂0.5-5份去离子水20-60份所述侧链苯基树脂为苯乙烯-苯乙烯磺酸共聚物，其数均分子量为1000-50000；所述复合乳化剂由质量比1:1.5-5的阴离子乳化剂和非离子乳化剂构成；所述阴离子乳化剂为十二烷基苯磺酸钠；所述非离子乳化剂为吐温-20。
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