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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114830043B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080087946.X，技术领域涉及：G03H1/04；该发明授权暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法是由W·M·J·M·柯恩;A·J·登鲍埃夫;V·T·滕纳;N·潘迪;C·弥赛西;J·F·迪鲍尔设计研发完成，并于2020-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法在说明书摘要公布了：本发明披露一种暗场数字全息显微镜，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的所关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括：照射装置，所述照射装置被配置成至少提供：第一束对，所述第一束对包括第一照射辐射束1010和第一参考辐射束1030；和第二束对，所述第二束对包括第二照射辐射束1020和第二参考辐射束1040；和一个或更多个光学元件1070，所述一个或更多个光学元件能够操作以捕获由所述结构散射的第一散射辐射且捕获由所述结构散射的第二散射辐射，所述第一散射辐射和所述第二散射辐射分别由所述第一照射束和所述第二照射束而产生。所述第一束对的束是相互相干的，以及所述第二束对的束是相互相干的。所述照射装置被配置成在所述第一束对与所述第二束对之间强加非相干性ADI。

本发明授权暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法在权利要求书中公布了：1.一种暗场数字全息显微镜，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的所关注的特性，所述暗场数字全息显微镜包括：照射装置，所述照射装置被配置成至少提供：第一束对，所述第一束对包括第一照射辐射束和第一参考辐射束；和第二束对，所述第二束对包括第二照射辐射束和第二参考辐射束；和成像分支，所述成像分支能够操作以至少检测由所述结构散射的第一散射辐射以及检测由所述结构散射的第二散射辐射，所述第一散射辐射由所述结构受所述第一照射辐射束照射而产生，所述第二散射辐射由所述结构受所述第二照射辐射束照射而产生，所述成像分支具有大于0.1的检测NA；其中所述照射装置被配置使得：所述第一照射辐射束和所述第一参考辐射束是至少部分地时间相干的和至少部分地空间相干的；所述第二照射辐射束和所述第二参考辐射束是至少部分地时间相干的和至少部分地空间相干的；以及所述照射装置被配置成通过在所述第一束对与所述第二束对之间引入延迟来在所述第一束对与所述第二束对之间强加时间非相干性和或空间非相干性，所述延迟经由包括可调光学延迟线的非相干延迟布置被实施。

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