恭喜FEI公司P·唐娜获国家专利权
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龙图腾网恭喜FEI公司申请的专利真空兼容的X射线屏蔽罩获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116140642B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211454500.3,技术领域涉及:B22F10/28;该发明授权真空兼容的X射线屏蔽罩是由P·唐娜;C·斯密特;R·J·德赫罗特设计研发完成,并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空兼容的X射线屏蔽罩在说明书摘要公布了:公开用于在超高真空外壳内设置X射线屏蔽罩的方法及设备。制造壳体,对其进行泄漏测试,将其填充有X射线屏蔽材料,且对其进行密封。细长的扭曲的X射线屏蔽罩可部署在电子显微镜或类似设备的泵出通道内。所述屏蔽罩可在不锈钢壳体内并有铅,且在所述壳体外部具有任选的低Z包层。公开了其它变化。
本发明授权真空兼容的X射线屏蔽罩在权利要求书中公布了:1.一种制造用于电子显微镜的定位在真空外壳内的真空兼容的X射线屏蔽罩的方法,其包括:制造限定腔室且具有一个或多个端口的壳体,其中所述壳体包括不锈钢或低Z真空可兼容材料;暂时隔离所述腔室与所述壳体周围的环境;对所述壳体进行测试以验证所述壳体是否没有泄漏,其中所述腔室的暂时隔离针对涵盖所述测试的持续时间;用X射线屏蔽材料填充所测试壳体;及对所填充壳体的所述一个或多个端口进行密封。
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