恭喜三星显示有限公司金柾勋获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星显示有限公司申请的专利掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112779498B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010966090.5,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法是由金柾勋;晋丞民设计研发完成,并于2020-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法。根据一个或多个实施例,掩模组件包括:包括开口和围绕开口的部分的掩模框架,以及被布置在掩模框架上并且包括第一区域和第二区域的掩模,并且沉积材料可穿过与开口相对应的第一区域,并且第二区域在第一区域周围,并且第一区域包括沉积开口,并且第二区域包括虚设开口,虚设开口中的至少一些包括被布置成从连接沉积开口的中心的直线偏离的中心,并且沉积开口中的每一个的宽度与虚设开口中的每一个的宽度相同。
本发明授权掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法在权利要求书中公布了:1.一种掩模组件,包括:掩模框架,包括开口和围绕所述开口的部分;以及掩模,被布置在所述掩模框架上,在第一方向上被拉紧,并且包括第一区域和第二区域,其中,沉积材料可穿过与所述开口相对应的所述第一区域,并且所述第二区域在所述第一区域周围,其中,所述第一区域包括沉积开口,并且所述第二区域包括虚设开口,其中,所述虚设开口中的至少一些包括被布置成从连接所述沉积开口的中心的在所述第一方向上延伸的直线偏离的中心,且所述虚设开口中的至少一些与所述沉积开口沿着相同的直线被布置,并且所述沉积开口中的每一个的宽度与所述虚设开口中的每一个的宽度相同。
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