恭喜浙江中科玖源新材料有限公司张群获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜浙江中科玖源新材料有限公司申请的专利一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺及聚酰胺酰亚胺薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116120552B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211089788.9，技术领域涉及：C08G73/14；该发明授权一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺及聚酰胺酰亚胺薄膜是由张群;刘国隆;祝春才;金文斌设计研发完成，并于2022-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺及聚酰胺酰亚胺薄膜在说明书摘要公布了：本发明提供了一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺及聚酰胺酰亚胺膜，所述聚酰胺酰亚胺通过在聚酰胺酰亚胺分子结构中引入均苯基团，可以有效改善分子链的规整度，获得高度取向的面内结晶；因此所述聚酰胺酰亚胺不仅具有传统聚酰胺酰亚胺所具有的优异透光性和耐热性，还具有良好的溶剂耐受性。
本发明授权一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺及聚酰胺酰亚胺薄膜在权利要求书中公布了：1.一种耐溶剂透明聚酰胺酰亚胺，其特征在于，所述聚酰胺酰亚胺的分子结构式如下所示： 其中，a、b、c、d为相应重复单元的摩尔量，其取值都大于0；并且X1为衍生自4，4'-六氟亚异丙基二邻苯二甲酸酐的残基，X2为衍生自芳香族二酐或环状脂肪族二酐的残基，X3为衍生自均苯四甲酸二酐的残基，X4为衍生自芳香族二羰基化合物的残基；Y1、Y2、Y3、Y4为衍生自芳香族二胺的残基；X1为如下所述基团结构： X2为如下所述基团结构中的至少一种： X3为如下所述基团结构： X4为如下所述基团结构中的至少一种： Y1、Y2、Y3、Y4全部或独自为如下所述基团结构中的至少一种： 0.05≤ca+b+c+d≤0.2。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江中科玖源新材料有限公司，其通讯地址为：321100 浙江省金华市兰溪市兰江街道兰溪经济开发区光膜小镇；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号