恭喜迪睿合株式会社高桥浩幸获国家专利权
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龙图腾网恭喜迪睿合株式会社申请的专利偏光板、光学设备和偏光板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113189690B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110014151.2，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权偏光板、光学设备和偏光板的制造方法是由高桥浩幸;武田吐梦设计研发完成，并于2021-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本偏光板、光学设备和偏光板的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种偏光板、光学设备和偏光板的制造方法。本发明的目的在于提供透过轴透过率高的偏光板和光学设备。该偏光板是具有线栅结构的偏光板，具有透明基板、层叠于上述透明基板的第一面的第一防反射层、从上述第一防反射层突出的多个凸部和层叠于与上述第一面相反的第二面的第二防反射层，上述多个凸部以比使用频带的光的波长更短的间距周期性排列，各个凸部在第一方向上延伸、且从上述第一面开始依次具有反射层、电介质层和吸收层，上述第一防反射层和上述第二防反射层具有交替层叠的高折射率层和低折射率层。
本发明授权偏光板、光学设备和偏光板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种偏光板，是具有线栅结构的偏光板，具有透明基板、层叠于所述透明基板的第一面的第一防反射层、从所述第一防反射层突出的多个凸部和层叠于与所述第一面相反的第二面的第二防反射层，所述多个凸部以比使用频带的光的波长更短的间距周期性排列，各个凸部在第一方向上延伸，且从所述第一面开始依次具有反射层、电介质层和吸收层，所述第一防反射层和所述第二防反射层具有交替层叠的高折射率层和低折射率层，所述第一防反射层的与所述多个凸部重合的重叠区域的膜厚和不与所述多个凸部重合的非重叠区域的膜厚之差为10nm以上30nm以下。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人迪睿合株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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