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龙图腾网恭喜拓荆科技股份有限公司申请的专利一种气体切换系统及其相关半导体制程方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288262B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111531442.5，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种气体切换系统及其相关半导体制程方法是由野沢俊久;邱大益;李晶;关帅设计研发完成，并于2021-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种气体切换系统及其相关半导体制程方法在说明书摘要公布了：本揭露涉及一种气体切换系统及其相关半导体制程方法。在本揭露的一实施例中，一种气体切换系统，其适用于向半导体制程装置提供气体切换功能，所述半导体制程装置至少包含设置于上游的制程气体源、设置于下游的制程腔室以及真空泵，所述气体切换系统设置在所述制程气体源与所述制程腔室之间，其特征在于，所述气体切换系统包括：实质上居中设置的第一反应气体入口和第二反应气体入口，所述第一反应气体入口和所述第二反应气体入口分别经配置以接收来自所述制程气体源的反应气体；分别设置于所述第一反应气体入口两侧的第一阀体单元和第二阀体单元；及分别设置于所述第二反应气体入口两侧的第三阀体单元和第四阀体单元。

本发明授权一种气体切换系统及其相关半导体制程方法在权利要求书中公布了：1.一种气体切换系统，其适用于向半导体制程装置提供气体切换功能，所述半导体制程装置至少包含设置于上游的制程气体源、设置于下游的制程腔室以及真空泵，所述气体切换系统设置在所述制程气体源与所述制程腔室之间，其特征在于，所述气体切换系统包括：第一反应气体入口和第二反应气体入口，所述第一反应气体入口和所述第二反应气体入口分别经配置以接收来自所述制程气体源的反应气体；分别设置于所述第一反应气体入口两侧的第一阀体单元和第二阀体单元；及分别设置于所述第二反应气体入口两侧的第三阀体单元和第四阀体单元，其中，所述第四阀体单元经由通道与所述第二阀体单元相连，且设置于通往所述第二阀体单元的通道的上游，所述气体切换系统经配置以同时向所述制程腔室输送所述第一反应气体与所述第二反应气体中的一者以及来自清洁气体源的清洁气体。

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