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龙图腾网恭喜安徽工程大学申请的专利一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117192913B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311165016.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法是由黄胜洲;任博文;唐远卓;田照伟;蒋铖玮;吴东杰;李懿设计研发完成，并于2023-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域，尤其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法，通过光刻中三维移动平台的纳米级距离的反复微移动填补DMD像素间隙，从而消减DMD像素量化误差，实现提高曝光图形轮廓的边缘平滑度，提高分辨率，并且通过三维移动平台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同程度的优化结果。与子图叠加光刻相比，整个过程更加便捷灵活，与普通的非子图叠加光刻相比，曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。

本发明授权一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统，其特征在于，包括紫外线光源、均光准直元件、DMD芯片、反射镜、投影物镜和三维移动平台，其中，紫外线光源用于提供紫外线光线；所述均光准直元件用于将紫外线光线处理为均匀光束，打到DMD芯片上；所述DMD芯片用于将均匀光束反射到反射镜；所述反射镜用于将均匀光束投射入投影物镜中；所述投影物镜用于将均匀光束聚焦至三维移动平台；所述三维移动平台用于放置待光刻的工件，通过不间断的来回反复移动，对曝光图形的边缘进行不同程度的优化；所述三维移动平台来回反复移动的路线由计算终端控制，控制过程包括：确定三维移动平台移动位置；确定工序数为N-1，将一个像素的长度平均分为N份，每份距离为n；确定三维移动步长，设曝光在第m个工序中，x轴的步长为Lx=mn，y轴的步长为Ly=mn；确定曝光时间，设不经过三维移动的图案最佳曝光时间为T，则三维移动曝光在第i次工序移动的时间为t，t=TN-1，其中i=1、2……N-1；在光刻过程的第i次工序中，将三维平台的x轴，y轴同时分别向左和上方向移动in,再回到初始点，重复该过程，时长为t。

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