恭喜东京毅力科创株式会社天野嘉文获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理系统和基板处理装置的管理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114188243B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111334272.1，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理系统和基板处理装置的管理方法是由天野嘉文;守田聪;池边亮二;宫本勲武设计研发完成，并于2017-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理系统和基板处理装置的管理方法在说明书摘要公布了：提供一种基板处理系统和基板处理装置的管理方法。通过对与基板的周缘部的膜去除有关的信息进行管理，能够长期地稳定地运用基板处理装置。具备：测定处理工序，基于通过由所述拍摄部对基于基板处理制程被处理后的基板的周缘部进行拍摄所得到的拍摄图像，测定所述膜的去除宽度；制作工序，制作将所述膜的去除宽度的设定值、通过所述测定处理工序测定出的膜的去除宽度的测定值以及得到所述测定结果的时刻信息相关联的管理列表；分析工序，基于制作出的所述管理列表来分析基板处理的状态；以及通知工序，根据所述分析工序的分析结果，对使用者进行规定的通知。
本发明授权基板处理系统和基板处理装置的管理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理系统，包括进行去除基板的周缘部的膜的处理的基板处理装置、拍摄所述基板的周缘部的摄像装置、进行基于拍摄图像的测定处理的测定处理装置以及对与测定处理有关的信息进行管理的信息处理装置，该基板处理系统的特征在于，所述基板处理装置具备：旋转保持部，其保持所述基板并使所述基板旋转；以及处理液供给部，其向所述基板的周缘部供给用于去除所述膜的处理液，所述测定处理装置具备控制部，该控制部基于由所述摄像装置得到的拍摄图像，来测定所述膜的去除宽度，所述信息处理装置具备控制部，该控制部制作将包含所述膜的去除宽度的设定值的处理制程信息与包含测定出的所述膜的去除宽度的测定值以及得到测定结果的时刻信息的测定处理结果信息相关联的管理列表，基于制作出的所述管理列表来分析所述测定结果的经时变化。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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