恭喜大冢制药株式会社;大鹏药品工业株式会社S·霍华德获国家专利权
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龙图腾网恭喜大冢制药株式会社;大鹏药品工业株式会社申请的专利吡唑并[3,4-B]吡嗪SHP2磷酸酶抑制剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114206885B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080056769.9，技术领域涉及：C07D519/00；该发明授权吡唑并[3,4-B]吡嗪SHP2磷酸酶抑制剂是由S·霍华德;J·W·利贝许茨;岛村整设计研发完成，并于2020-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本吡唑并[3,4-B]吡嗪SHP2磷酸酶抑制剂在说明书摘要公布了：本发明提供了新型式I吡嗪衍生物：或其互变异构体或溶剂化物或药学上可接受的盐，其中取代基如本文所定义的。本发明还提供了包括所述化合物的药物组合物以及所述化合物在治疗疾病，例如癌症中的用途。式I：
本发明授权吡唑并[3,4-B]吡嗪SHP2磷酸酶抑制剂在权利要求书中公布了：1.一种式I化合物： 或其药学上可接受的盐，其中：R1是氢或羟基；R2和R3独立地选自氢、卤素、C1-4烷基、卤代C1-4烷基、羟基C1-4烷基和-CN；X是O或CR4R5；R4和R5独立地选自氢、卤素、羟基、C1-4烷基、C1-4烷氧基和卤代C1-4烷基；R6和R7接合以形成任选地被一个或多个R10基团取代的环A；环A是以下中的任一个：i五元含氮杂环，其中所述杂环任选地含有选自N、O和S的一个或两个额外杂原子；或ii六元芳香族含氮杂环，其中所述杂环任选地含有选自N、O和S的一个或两个额外杂原子；或iii六元非芳香族含氮杂环，其中所述杂环任选地含有选自N和S的一个或两个额外杂原子；R8选自卤代C1-4烷基、-CH3和卤素；R9选自氢、C1-4烷基、卤代C1-4烷基和卤素；R10独立地选自：卤素；C1-4烷基；C1-4烷氧基、二C1-4烷基氨基；以及含有选自O和N的1个或2个杂原子的任选地经取代的四或六元饱和杂环基团，其中任选的取代基选自C1-4烷基。
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