恭喜ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司M·P·瑞因德斯获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司申请的专利光刻设备、量测系统、照射源及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114902142B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080090960.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻设备、量测系统、照射源及其方法是由M·P·瑞因德斯;M·斯威拉姆设计研发完成，并于2020-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻设备、量测系统、照射源及其方法在说明书摘要公布了：一种系统包括照射系统、光学元件和检测器。光学系统被应用在基板上。照射系统包括第一源和第二源以及第一发生器和第二发生器。照射系统产生辐射束。第一源和第二源产生相应的不同的第一波长带和第二波长带。第一谐振器和第二谐振器光学地联接到第一源和第二源中的相应的源并且使第一波长带和第二波长带中的相应的波长带变窄。光学元件将束向目标结构引导。检测器接收来自目标结构的辐射并基于接收到的辐射产生测量信号。
本发明授权光刻设备、量测系统、照射源及其方法在权利要求书中公布了：1.一种量测系统，包括：位于基板上的照射系统，所述照射系统被配置为产生辐射束并且包括：第一源和第二源，所述第一源和第二源被配置为产生相应的不同的第一波长带和第二波长带，以及第一谐振器和第二谐振器，所述第一谐振器和第二谐振器光学地联接到所述第一源和第二源中的相应的源，并且被配置为使所述第一波长带和第二波长带中的相应的波长带变窄；光学元件，所述光学元件被配置为将所述束向目标结构引导；和检测器，所述检测器被配置为接收从所述目标结构返回的辐射并基于接收到的辐射产生测量信号。
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