恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司张生睿获国家专利权
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龙图腾网恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268204B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210616447.6，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备是由张生睿设计研发完成，并于2022-06-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备在说明书摘要公布了：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种光学掩模修正模型的优化构建方法，方法包括以下步骤：S0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并进行特征数据进行预处理，得到拟合数据；S1：根据特征尺寸进行OPC建模，得到初始OPC模型；S2：根据拟合数据对初始OPC模型进行优化，得到优化OPC模型。本发明提供的对传统OPC模型进行了优化，引入了亚分辨率辅助图形的特征数据，可以使得优化OPC模型可以更便捷、准确地判断亚分辨率辅助图形是否印出，以便于对亚分辨率辅助图形进行调整。
本发明授权一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种光学掩模修正模型的优化构建方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：S0：获取掩模版图的特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对所述特征数据进行预处理，得到拟合数据；S1：根据所述特征尺寸进行OPC建模，得到初始OPC模型，所述初始OPC模型包含初始计量平面；S2：根据所述拟合数据对所述初始OPC模型进行优化，所述优化包括主优化回合，所述主优化回合包含以下步骤：S21：以所述初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；S22：基于所述初始计量平面得到主评价函数，以及根据所述拟合数据得出所述多个仿真计量平面对应的额外评价函数；S23：根据所述主评价函数以及所述额外评价函数得出当前主回合的总评价函数；当还未完成预设的主优化回合的次数和或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合；反之，得到优化OPC模型。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司，其通讯地址为：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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