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龙图腾网恭喜中国科学院西安光学精密机械研究所申请的专利用于快照式HiLo显微成像的波长复用超表面及设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116300068B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310176437.X，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权用于快照式HiLo显微成像的波长复用超表面及设计方法是由张文富;葛苏阳;赵卫;王国玺设计研发完成，并于2023-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于快照式HiLo显微成像的波长复用超表面及设计方法在说明书摘要公布了：本发明属于微纳光学技术领域，涉及一种用于快照式HiLo光学切片显微成像的波长复用超表面及设计方法，包含以下步骤：步骤1：确定均匀照明光与结构照明光这两种工作波长下的传输相位、传输相位差分别与介质纳米柱的结构参数之间的关系曲线，建立基本单元结构相位库；步骤2：确定均匀照明光与结构照明光之间的目标相位差；步骤3：在基本结构单元库中筛选在两种工作波长下等于目标相位差的介质纳米柱；将筛选的两种介质纳米柱按照设计相位分布方程进行排布，得到波长复用超表面结构。相比于常规HiLo显微成像技术，本发明有效地提高了成像速度与成像稳定性，降低成像与重构过程的复杂度，为快照式的HiLo显微成像提供了一种新的思路。

本发明授权用于快照式HiLo显微成像的波长复用超表面及设计方法在权利要求书中公布了：1.一种用于快照式HiLo光学切片显微成像的波长复用超表面的设计方法，其特征在于，具体包含以下步骤：步骤1：确定均匀照明光与结构照明光这两种工作波长下的传输相位、传输相位差分别与介质纳米柱的结构参数之间的关系曲线，建立基本单元结构相位库；步骤2：确定均匀照明光与结构照明光之间的目标相位差：当入射光波长为λ1，结构照明光的目标相位为： 当入射光波长为λ2，均匀照明光的目标相位为： 其中，x为基本单元结构的横坐标；m为正弦调制参数；L为周期间隔；为参考相位；C为常数；下标1和2分别代表两种工作波长；计算两种工作波长下的目标相位差： 步骤3：在步骤1得到的基本结构单元库中筛选在两种工作波长下等于目标相位差的介质纳米柱；将筛选的两种介质纳米柱按照设计相位分布方程进行排布，得到波长复用超表面结构，所述设计相位分布方程如下：

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