恭喜台湾积体电路制造股份有限公司张永昌获国家专利权
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龙图腾网恭喜台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利显示装置及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112670268B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010517951.1，技术领域涉及：H01L23/528；该发明授权显示装置及其形成方法是由张永昌;刘铭棋设计研发完成，并于2020-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示装置及其形成方法在说明书摘要公布了：在本发明一些实施例中，涉及一种显示装置，所述显示装置包括：隔离结构，设置在反射器电极之上；透明电极，设置在隔离结构之上；光学发射器结构，设置在透明电极之上；以及通孔结构。通孔结构在隔离结构的顶表面处从透明电极延伸到反射器电极的顶表面。通孔结构包括与反射器电极的顶表面接触的中心水平段、与隔离结构的内侧壁接触的侧壁垂直段及通过侧壁垂直段连接到中心水平段的上部水平段。上部水平段厚于中心水平段。
本发明授权显示装置及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种显示装置，包括：隔离结构，设置在反射器电极之上；透明电极，设置在所述隔离结构之上；光学发射器结构，设置在所述透明电极之上；以及通孔结构，在所述隔离结构的顶表面处从所述透明电极延伸到所述反射器电极的顶表面，其中所述通孔结构包括与所述反射器电极的所述顶表面接触的中心水平段、与所述隔离结构的内侧壁接触的侧壁垂直段、及与所述隔离结构的所述顶表面接触的上部水平段，其中所述上部水平段通过所述侧壁垂直段连接到所述中心水平段，且其中所述上部水平段厚于所述中心水平段，其中所述透明电极具有向所述通孔结构中突出到所述中心水平段的突出部，且其中所述通孔结构以杯状环绕所述突出部的下侧。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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