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龙图腾网恭喜SK纳力世有限公司申请的专利防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113924669B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080041738.6，技术领域涉及：H01M4/66；该发明授权防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法是由金善花;李颜娜;金昇玟设计研发完成，并于2020-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明的一实施例提供一种铜箔，包括：铜层，具有毛面和光面；以及防锈膜，配置在所述铜层上，所述铜箔以绝对值为基准具有0.5至25Mpa的残余应力residualstress，所述铜层包含铜和碳C，在所述铜层中，所述碳C的含量为2至20ppm，所述铜层具有包含结晶质crystalline粒子的111面、200面、220面以及311面，所述220面的衍射强度在所述111面、所述200面、所述220面以及所述311面的衍射强度之和中所占的比率为10至40％，在常温所述220面的所述结晶质粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸。

本发明授权防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种铜箔，其中，包括：铜层，具有毛面和光面；以及防锈膜，配置在所述铜层上，所述铜箔以绝对值为基准具有0.5至25Mpa的残余应力，所述铜层包含铜和碳C，在所述铜层中，所述碳C的含量为2至20ppm，所述铜层具有包含结晶质粒子的111面、200面、220面以及311面，所述220面的衍射强度在所述111面、所述200面、所述220面以及所述311面的衍射强度之和中所占的比率为10至40％，在常温所述220面的所述结晶质粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸，具有所述毛面方向的第一面和所述光面方向的第二面，所述第一面和所述第二面的表面粗糙度Ra分别为0.98至1.23μm，所述220面的衍射强度是在30°至95°的衍射角2θ范围内通过X射线衍射法XRD获得具有与n个晶面相对应的峰的XRD谱图，从该XRD谱图求得各个晶面hkl的XRD衍射强度[Ihkl]，在所述X射线衍射法中，靶材为铜Kα1，2θ间距为0.01°，2θ扫描速度为3°min，所述n为4。

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