恭喜广州方邦电子股份有限公司苏陟获国家专利权
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龙图腾网恭喜广州方邦电子股份有限公司申请的专利电磁屏蔽膜及线路板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641194B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110177640.X，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权电磁屏蔽膜及线路板是由苏陟;张美娟设计研发完成，并于2021-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本电磁屏蔽膜及线路板在说明书摘要公布了：本发明涉及电子技术领域，公开了一种电磁屏蔽膜及线路板，其中，所述电磁屏蔽膜包括绝缘层、屏蔽层及胶膜层；所述屏蔽层形成于所述绝缘层的一面上，所述胶膜层设于所述屏蔽层的远离所述绝缘层的一面上；其中，在胶克重参数的单位为克每平方分米下，所述绝缘层的靠近所述屏蔽层的一面的粗糙度Sdr与所述胶膜层的胶克重参数两者的数值的比例为0.2‑20000。本发明提供的电磁屏蔽膜及线路板能够同时具有以下优点：与线路板的良好的粘合强度和压合到线路板后让线路板具有良好的外观。
本发明授权电磁屏蔽膜及线路板在权利要求书中公布了：1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括绝缘层、屏蔽层及胶膜层；所述屏蔽层形成于所述绝缘层的一面上，所述胶膜层设于所述屏蔽层的远离所述绝缘层的一面上；其中，在胶克重参数的单位为克每平方分米下，所述绝缘层的靠近所述屏蔽层的一面的粗糙度Sdr与所述胶膜层的胶克重参数两者的数值的比例为0.2-20000，在用粗糙度Sdr与胶克重参数进行比例计算时，直接用粗糙度Sdr的百分比的数值来进行计算；所述屏蔽层的靠近所述胶膜层的一面的粗糙度Sdr与所述胶膜层的厚度的比例为2-95，所述胶膜层的厚度单位为微米。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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