恭喜ASML荷兰有限公司任伟明获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利具有低串扰的多带电粒子射束设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113892163B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080039350.2，技术领域涉及：H01J37/09；该发明授权具有低串扰的多带电粒子射束设备是由任伟明;胡学让;席庆坡;刘学东设计研发完成，并于2020-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有低串扰的多带电粒子射束设备在说明书摘要公布了：公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器140上的电光系统。该电光系统包括第一预限制孔径板155P和射束限制孔径阵列155，第一预限制孔径板155P包括被配置为阻挡多个二次带电粒子射束的外围带电粒子的第一孔径；射束限制孔径阵列155包括被配置为修整多个二次带电粒子射束的第二孔径。带电粒子检测器可以包括多个检测元件140_1、140_2、140_3，其中多个检测元件中的一个检测元件与多个二次带电粒子射束中的对应修整后的射束相关联。
本发明授权具有低串扰的多带电粒子射束设备在权利要求书中公布了：1.一种电光系统，包括：第一预限制孔径板，所述第一预限制孔径板包括第一孔径，所述第一孔径被配置为阻挡来自样品的多个二次带电粒子射束的外围带电粒子；以及射束限制孔径阵列，所述射束限制孔径阵列包括多个孔径，其中所述多个孔径中的第二孔径被配置为修整所述多个二次带电粒子射束，并且其中所述射束限制孔径阵列被配置为沿x轴和或y轴方向移动，使得所述多个孔径中的每个孔径能够被选择用于所述二次带电粒子射束。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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