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龙图腾网恭喜浙江工业大学;平湖市浙江工业大学新材料研究院申请的专利一种三明治结构P(VDF-CTFE)复合薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114103336B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010885942.8，技术领域涉及：B32B27/30；该发明授权一种三明治结构P(VDF-CTFE)复合薄膜及其制备方法是由叶会见;刘文清;徐立新设计研发完成，并于2020-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种三明治结构P(VDF-CTFE)复合薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种三明治结构PVDF‑CTFE复合薄膜及其制备方法。所述三明治结构PVDF‑CTFE复合薄膜包括两个BNNSsPVDF‑CTFE薄膜层以及夹在两者之间的PMMA层；所述的BNNSsPVDF‑CTFE薄膜层中，所述的BNNSs的表面通过静电力吸附有共聚物HBPE‑g‑PMMA，且所述BNNSs均匀地分散在PVDF‑CTFE中并呈取向排列；所述的BNNSs与PVDF‑CTFE的质量比为0.1‑1wt％；所述BNNSsPVDF‑CTFE薄膜层厚度在5～20μm之间，PMMA层厚度在0.5～5μm之间。本发明所制备的三明治结构PVDF‑CTFE复合薄膜具有较高的介电常数、低介电损耗和高击穿场强，同时保持良好的柔韧性。

本发明授权一种三明治结构P(VDF-CTFE)复合薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种三明治结构PVDF-CTFE复合薄膜，其包括两个BNNSsPVDF-CTFE薄膜层以及夹在两者之间的PMMA层；所述的BNNSsPVDF-CTFE薄膜层中，所述的BNNSs的表面通过静电力吸附有共聚物HBPE-g-PMMA，且所述BNNSs均匀地分散在PVDF-CTFE中并呈取向排列；所述的BNNSs与PVDF-CTFE的质量比为0.1-1wt％；所述BNNSsPVDF-CTFE薄膜层厚度在5～20μm之间，PMMA层厚度在0.5～5μm之间；所述的三明治结构PVDF-CTFE复合薄膜的制备方法包括以下步骤：1将PVDF-CTFE的溶液与氮化硼纳米片分散液混合搅拌，形成均一的铸膜液，其中BNNSs与PVDF-CTFE的质量比为0.1-1wt％：1；将铸膜液均匀地流延到平板玻璃片上，接着烘干成膜，待溶剂挥发完全，温度降至室温即得BNNSsPVDF-CTFE薄膜层；2在步骤1得到的BNNSsPVDF-CTFE薄膜层上流延一层PMMA聚合物的溶液，烘干成膜，撕下玻璃片上的双层薄膜保存待用；3取步骤1得到的BNNSsPVDF-CTFE薄膜层和步骤2中制备得到的双层薄膜叠放在一起，经热压得到中间层为PMMA层的“三明治”结构复合薄膜；其中，控制热压过程中的温度为160～200℃，压力为8～15MPa，热压时间为10～20min；4将步骤3得到的“三明治”结构复合膜进行单轴拉伸，使BNNSs在PVDF-CTFE中呈取向排列，得到三明治结构PVDF-CTFE复合薄膜，所述的三明治结构PVDF-CTFE复合薄膜中，所述聚合物PVDF-CTFE中β相晶型的相对含量Fβ＞60％。

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