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龙图腾网恭喜广东普加福光电科技有限公司申请的专利一种量子点光学补偿膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114388677B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011123364.0，技术领域涉及：H10H20/851；该发明授权一种量子点光学补偿膜及其制备方法是由董晓楠;邓徐俊;任树铭;李阳设计研发完成，并于2020-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种量子点光学补偿膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种量子点光学补偿膜及其制备方法，所述量子点光学补偿膜包括柔性衬底以及浸渍沉积于所述柔性衬底上的双层光子晶体自封装量子点层；所述双层光子晶体自封装量子点层依次包括第一光子晶体沉积层、量子点喷淋层以及第二光子晶体沉积层。本发明所述量子点光学补偿膜利用双层光子晶体成膜实现对量子点的自封装，自发构筑封装结构，保护效果好，有效隔绝水氧侵蚀，原材料简单，无需光热聚合，无需猝灭剂混合参与，有效确保量子点的光致稳定性，发光强度高、光源利用率高且能够改善辐照均匀度的优点。所述的量子点光学补偿膜的制备方法制备工艺简单，生产周期短且成本较低，适用于农业大规模应用。

本发明授权一种量子点光学补偿膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种量子点光学补偿膜，其特征在于：包括柔性衬底以及浸渍沉积于所述柔性衬底上的双层光子晶体自封装量子点层；所述双层光子晶体自封装量子点层依次包括第一光子晶体沉积层、量子点光转换层以及第二光子晶体沉积层；所述光子晶体为SiO2纳米球、聚甲基丙烯酸甲酯纳米球、聚碳酸酯纳米球或有机硅纳米球中的一种或多种混合；其中，量子点光转换层为在第一光子晶体沉积层上喷淋量子点分散液得到，量子点的质量体积浓度为0.5～50gL；所述量子点为具有核壳结构的量子点，其包括核心部分以及包覆于所述核心部分外的表面包覆层；所述核心部分为Zn-Cu-In-Se量子点、Cu-In-Ga-Se量子点、Cu-In-Se-S量子点、CuInS2量子点、ZnS量子点、ZnSe量子点、ZnSeS量子点、ZnTexSe1-x量子点、InP量子点和碳量子点中的一种或多种混合；所述表面包覆层材料为二氧化硅、聚丙烯酸树脂中的一种或两种混合。

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