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龙图腾网恭喜恩特格里斯公司申请的专利使用功能化表面微特征来清洁接点组件及支持硬件或引线接合器的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114829028B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080079212.7，技术领域涉及：B08B11/00；该发明授权使用功能化表面微特征来清洁接点组件及支持硬件或引线接合器的系统及方法是由A.E.亨弗利;J.J.布罗兹;B.A.亨弗利;A.S.波勒斯;W.C.史密斯;J.希弗莱设计研发完成，并于2020-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本使用功能化表面微特征来清洁接点组件及支持硬件或引线接合器的系统及方法在说明书摘要公布了：用于可预测地清洁测试器接口诸如探针卡和测试插座的接点组件及支持硬件或引线接合器及毛细管的清洁材料、装置及方法，其中清洁垫具有适合于该特定接脚接点组件或毛细管的预定配置，及具有定义的功能化表面拓扑及几何形状的基板，该定义的功能化表面拓扑及几何形状可在正常测试操作期间引入至该测试设备内。该清洁材料具有具多个功能3维3D微结构的预定拓扑，该微结构提供在非功能化且平表面的情况下不可能的性能特性。

本发明授权使用功能化表面微特征来清洁接点组件及支持硬件或引线接合器的系统及方法在权利要求书中公布了：1.具有功能化表面的清洁材料，用来清洁用于晶圆级或封装级IC半导体装置测试的测试接口的接点组件及支持结构，该清洁材料包含：清洁介质，其具有清洁介质基底参考平面以及多个功能化微特征，所述功能化微特征排列成阵列，该阵列具有多个行和多个列的功能化微特征，而且，各功能化微特征具有主体，该主体具有使该清洁介质优化的宽度、高度、各主体之间的间距和尺寸性质，使得在无修改或损坏的情况下清洁接触区域及周围支持硬件，各功能化微特征在清洁介质基底参考平面的上方延伸，且该清洁介质具有均匀地分布于各功能化微特征的主体内的具有7或更大的莫氏硬度的多个研磨剂颗粒；清洁层，其跨该清洁介质的顶表面施加，具有从接脚接点组件及支持硬件清洁污染物的预定特性，该清洁层在所有功能化微特征的顶部上以及在各功能化微特征之间的间距内施加，向下达到所述清洁介质基底参考平面；以及在该清洁介质下的一个或多个中间刚性或柔性底层，其中各底层具有在大于40MPa至600MPa之间的弹性模量范围，各层具有在25μm与300μm之间的厚度，且各层具有在30萧氏A与90萧氏A之间的硬度。

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