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龙图腾网恭喜比亚迪股份有限公司申请的专利一种氧化锆陶瓷材料及其制备方法、电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117510201B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210899248.0，技术领域涉及：C04B35/48；该发明授权一种氧化锆陶瓷材料及其制备方法、电子设备是由林信平;李和祯;杨清平;江品颐设计研发完成，并于2022-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氧化锆陶瓷材料及其制备方法、电子设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种氧化锆陶瓷材料及其制备方法、以及含有该陶瓷材料的电子设备，所述陶瓷材料成分包含1mol％～4.8mol％的氧化铌，95.2mol％～99mol％的相稳定氧化锆陶瓷；所述陶瓷材料具有基质层、至少一层与基质层相邻的强化层；所述基质层为相稳定氧化锆陶瓷，所述基质层包括单斜相氧化锆、四方相氧化锆，所述基质层中单斜相含量占基质层陶瓷的重量百分含量为0.1～8％；所述强化层包括氧化铌、单斜相氧化锆、四方相氧化锆，所述强化层中的单斜相含量大于基质层中的单斜相含量，所述强化层中单斜相含量占强化层陶瓷材料的重量百分含量为5～80％，所述强化层的厚度为0.5～25μm。所述氧化锆陶瓷材料相对于现有技术的氧化锆陶瓷材料强度较高，能满足移动智能设备的后盖对于材料的强度要求。

本发明授权一种氧化锆陶瓷材料及其制备方法、电子设备在权利要求书中公布了：1.一种氧化锆陶瓷材料，其特征在于，所述陶瓷材料成分包含1mol%~4.8mol%的氧化铌，95.2mol%~99mol%的相稳定氧化锆陶瓷；所述陶瓷材料具有基质层、至少一层与基质层相邻的强化层；所述基质层为相稳定氧化锆陶瓷，所述基质层包括单斜相氧化锆、四方相氧化锆，所述基质层中单斜相含量占基质层陶瓷的重量百分含量为0.1~8%；所述强化层包括氧化铌、单斜相氧化锆、四方相氧化锆，所述强化层中的单斜相含量大于基质层中的单斜相含量，所述强化层中单斜相含量占强化层陶瓷材料的重量百分含量为5~70%，所述强化层的厚度为0.5~15μm；所述氧化锆陶瓷材料的制备方法，包括以下步骤：（1）将氧化锆陶瓷原料成型为陶瓷基体坯件，对所述陶瓷基体坯件依次进行脱脂、第一烧结处理，得到陶瓷件；（2）在步骤（1）得到的陶瓷件的至少部分表面通过磁控溅射形成氧化铌镀层；（3）将步骤（2）得到的表面具有氧化铌镀层的陶瓷件进行第二烧结，得到所述氧化锆陶瓷材料。

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