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龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119494317B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510073366.X，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质是由王志强;田靖宇设计研发完成，并于2025-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质，涉及版图修正技术领域，包括：获取用户编写的SRAF放置规则文件，并对SRAF放置规则文件进行解析，以识别SRAF图形在集成电路版图中的位置信息、种类信息、数量信息和优先级信息，以得到SRAF特征信息；利用预设评估规则对SRAF特征信息分别进行效果评估，以得到各信息的效果评估结果；根据效果评估结果输出SRAF放置规则文件当前存在的缺陷问题，并提示用户进行SRAF图形的设计调整。缩短了整个评估周期，能更快速地为后续的SRAF图形设计调整提供依据，有效加快集成电路工艺开发验证的速度。

本发明授权一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种SRAF放置效果评估方法，其特征在于，包括：获取用户编写的SRAF放置规则文件，并对所述SRAF放置规则文件进行解析，以识别SRAF图形的SRAF特征信息；其中，所述SRAF特征信息包括SRAF图形在集成电路版图中的位置信息、种类信息、数量信息和优先级信息；利用预设评估规则对所述SRAF特征信息分别进行效果评估，以得到各信息的效果评估结果；根据所述效果评估结果输出所述SRAF放置规则文件当前存在的缺陷问题，并提示用户进行SRAF图形的设计调整；其中，所述利用预设评估规则对所述SRAF特征信息分别进行效果评估，以得到各信息的效果评估结果之前，还包括：设置针对存在SRAF图形之间位置冲突的冲突信号、集成电路版图中目标位置缺失对应种类和或数量的SRAF图形问题的第一缺陷评估规则；设置针对满足版图一致性位置条件的集成电路版图的区域中的SRAF图形之间的差异值大于预设阈值的第二缺陷评估规则；设置针对集成电路版图中非目标位置缺失对应种类和或数量的SRAF图形问题的第三缺陷评估规则；基于所述第一缺陷评估规则、所述第二缺陷评估规则、所述第三缺陷评估规则构建预设评估规则；其中，所述集成电路版图中目标位置是与芯片核心功能、芯片核心性能和信号传输相关的集成电路版图的区域位置；所述集成电路版图中非目标位置是除所述集成电路版图中目标位置、满足版图一致性位置条件的集成电路版图的区域外的区域位置。

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