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龙图腾网恭喜沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111952209B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910397869.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴是由彭博;李檀设计研发完成，并于2019-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴在说明书摘要公布了：本发明属于晶圆清洗领域，具体地说是一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴，喷嘴内芯上开设有液体通道，液体由液体通道的一端进入、由位于另一端的喷液口喷出；喷嘴内芯的一端插设于喷嘴外壳中，喷嘴外壳的一端与喷嘴内芯连接，另一端内部连接有喷嘴内塞，喷嘴内塞位于喷嘴外壳与喷嘴内芯之间；喷嘴内塞和喷嘴内芯之间以及喷嘴内塞和喷嘴外壳之间均留有供惰性气体流通的空间，喷嘴外壳上分别开设有与两个空间相连通的惰性气体进气口，喷嘴内塞上开设有布风孔，两个空间通过布风孔连通，两个空间内的惰性气体在布风孔内侧汇合。本发明通过改变惰性气体旋转方向及惰性气体加速度，同时配合清洗化学液流量，既对晶圆损伤小，又可以高效清洗晶圆。

本发明授权一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴在权利要求书中公布了：1.一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴，其特征在于：包括喷嘴内芯（1）、喷嘴外壳（8）及喷嘴内塞（11），其中喷嘴内芯（1）上开设有液体通道（6），液体由该液体通道（6）的一端进入、由位于另一端的喷液口（12）喷出；所述喷嘴内芯（1）的一端插设于喷嘴外壳（8）中，该喷嘴外壳（8）的一端与所述喷嘴内芯（1）连接，另一端内部连接有喷嘴内塞（11），所述喷嘴内塞（11）位于喷嘴外壳（8）与喷嘴内芯（1）之间；所述喷嘴内塞（11）和喷嘴内芯（1）之间以及喷嘴内塞（11）和喷嘴外壳（8）之间均留有供惰性气体流通的空间，该喷嘴外壳（8）上分别开设有与喷嘴内塞（11）和喷嘴内芯（1）之间的空间以及与喷嘴内塞（11）和喷嘴外壳（8）之间的空间相连通的惰性气体进气口，所述喷嘴内塞（11）上开设有布风孔（7），喷嘴内塞（11）和喷嘴内芯（1）之间的空间与喷嘴内塞（11）和喷嘴外壳（8）之间的空间通过该布风孔（7）连通，喷嘴内塞（11）和喷嘴外壳（8）之间的空间内的惰性气体通过所述布风孔（7）呈旋转状向喷嘴内塞（11）和喷嘴内芯（1）之间的空间内进气，与喷嘴内塞（11）和喷嘴内芯（1）之间的空间内的惰性气体汇合后，由所述喷液口（12）外围的惰性气体出口（13）喷出，对由所述喷液口（12）喷出的液体雾化，晶圆表面通过被雾化后的液体进行清洗；所述喷嘴内塞（11）与喷嘴内芯（1）之间的空间的上部为惰性气体垂直加速区间（9）、下部为位于布风孔（7）内侧的汇合空间（14），中间为过渡段；所述惰性气体垂直加速区间（9）及汇合空间（14）均为圆柱状，所述过渡段为锥台状，该汇合空间（14）的内径大于所述惰性气体垂直加速区间（9）的内径；所述惰性气体出口（13）位于汇合空间（14）的下方，并环绕于所述喷液口（12）的外围。

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