恭喜无锡迪思微电子有限公司张宾获国家专利权
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龙图腾网恭喜无锡迪思微电子有限公司申请的专利腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114675496B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011555622.2,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置是由张宾设计研发完成,并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置在说明书摘要公布了:本申请提供了一种腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置,该方法包括:将颗粒吸附结构送入真空腔体内;向颗粒吸附结构发射预定电荷,使得颗粒吸附结构带上预定电荷,预定电荷为正电荷和或负电荷;在颗粒吸附结构带上预定电荷预定时间段之后,将颗粒吸附结构送出真空腔体。通过使颗粒吸附结构带上预定电荷,利用静电吸附原理,来吸附真空腔体内的与预定电荷电性相反的颗粒,再将吸附了颗粒的颗粒吸附结构送出真空腔体,相比现有技术,该方法无需打开真空腔体放为大气做清洁,节省了人力成本,并且避免了清洁耗时较长、效率低下的问题,保证了较高效率地对真空腔体的进行清洁。
本发明授权腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置在权利要求书中公布了:1.一种腔体的净化方法,其特征在于,包括:将颗粒吸附结构送入真空腔体内;向所述颗粒吸附结构发射预定电荷,使得所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷,所述预定电荷为负电荷;在所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷预定时间段之后,将所述颗粒吸附结构送出所述真空腔体,所述颗粒吸附结构包括颗粒吸附层,所述颗粒吸附结构还包括载体,所述颗粒吸附层位于所述载体的表面上,所述颗粒吸附层包括金属层,所述金属层包括多个间隔设置的金属部,使得向所述颗粒吸附结构发射所述预定电荷时,多个所述金属部带上预定电荷,所述真空腔体为电子束曝光机台的真空腔体,向所述颗粒吸附结构发射所述预定电荷,使得所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷,包括:控制所述电子束曝光机台的电子发射源发射电子束所述预定时间段,使得所述颗粒吸附结构带上负电荷。
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