恭喜三星电子株式会社金成洙获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利用于极紫外光刻的相移掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113534598B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110096801.2，技术领域涉及：G03F1/24；该发明授权用于极紫外光刻的相移掩模是由金成洙;金东完;徐焕锡设计研发完成，并于2021-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于极紫外光刻的相移掩模在说明书摘要公布了：用于极紫外光刻工艺的相移掩模包括衬底、位于所述衬底上的反射层、位于所述反射层上的覆盖层和位于所述覆盖层上的相移图案。每个所述相移图案可以包括位于所述覆盖层上的下吸收图案和位于所述下吸收图案上的上吸收图案。所述上吸收图案的折射率可以高于所述下吸收图案的折射率，并且所述上吸收图案的厚度小于所述下吸收图案的厚度。
本发明授权用于极紫外光刻的相移掩模在权利要求书中公布了：1.一种用于极紫外光刻工艺的相移掩模，包括：衬底；反射层，位于所述衬底上；覆盖层，位于所述反射层上；和相移图案，位于所述覆盖层上，其中，每个所述相移图案包括：下吸收图案，位于所述覆盖层上；和上吸收图案，位于所述下吸收图案上，其中，所述上吸收图案的折射率高于所述下吸收图案的折射率，并且，所述上吸收图案的厚度小于所述下吸收图案的厚度，其中，所述衬底包括图案区域和围绕所述图案区域的黑色边界区域，并且其中，所述反射层具有位于所述图案区域上的多层结构和位于所述黑色边界区域上的混合结构，所述多层结构包括交替堆叠的第一部分高折射率层和第一部分低折射率层，并且所述混合结构包括彼此混合的第二部分高折射率层和第二部分低折射率层。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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