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龙图腾网恭喜西湖大学申请的专利光刻装置和光刻系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114675507B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210373960.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻装置和光刻系统是由李西军;宋春燕设计研发完成，并于2022-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻装置和光刻系统在说明书摘要公布了：本公开涉及一种光刻装置和光刻系统。光刻装置包括：信号生成模块，信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及掩模版驱动模块，掩模版驱动模块与信号生成模块通信地连接，且掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在掩模版上形成相应的掩模版图案。

本发明授权光刻装置和光刻系统在权利要求书中公布了：1.一种光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：信号生成模块，所述信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据所述一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；掩模版驱动模块，所述掩模版驱动模块与所述信号生成模块通信地连接，且所述掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在所述掩模版上形成相应的掩模版图案；第一光发生器，所述第一光发生器被配置为产生处于第二频带中的初始光束，所述初始光束具有在垂直于其行进方向的截面上的均匀的光强分布；第二光发生器，所述第二光发生器被配置为产生处于第一频带中的曝光光束；以及空间光调制器，所述空间光调制器被配置为在掩模版驱动信号的作用下将所述初始光束转化为调制光束，其中，所述调制光束处于与第一频带分隔开的第二频带中，所述调制光束具有与掩模版图案对应的空间结构且在垂直于其行进方向的截面上具有非均匀的强度分布，所述调制光束被配置为用于照射掩模版中的光致变色材料，其中，调制光束中的调制光被配置为：在对光致变色材料进行照射的情况下，使所述光致变色材料处于对曝光光束的非透光状态或透光状态，以在所述掩模版中产生所述掩模版图案；在被移除对所述光致变色材料的照射的情况下，使所述光致变色材料由透光状态恢复为非透光状态或者由非透光状态恢复为透光状态。

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