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龙图腾网恭喜中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利缺陷检测方法及缺陷检测系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112444526B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910838099.5，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权缺陷检测方法及缺陷检测系统是由孟阳;王伟斌设计研发完成，并于2019-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本缺陷检测方法及缺陷检测系统在说明书摘要公布了：一种缺陷检测方法及缺陷检测系统，包括：提供晶圆，所述晶圆包括检测面；对所述检测面进行扫描，获取所述检测面的扫描图像，所述扫描图像包括若干第一单元图形；提供设计图像，所述设计图像包括与所述第一单元图形对应的若干第二单元图形；根据所述设计图像对所述扫描图像进行筛选，去除所述第一单元图形中的干扰缺陷单元图形。在本发明的技术方案中，通过将第一单元图形中的干扰缺陷单元图形进行部分筛选去除，有效减少了后续检测分析的第一单元图形的数量，缩短了检测时间，从而提高了检测效率。

本发明授权缺陷检测方法及缺陷检测系统在权利要求书中公布了：1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：提供晶圆，所述晶圆包括检测面；对所述检测面进行扫描，获取所述检测面的扫描图像，所述扫描图像包括若干第一单元图形；提供设计图像，所述设计图像包括与所述第一单元图形对应的若干第二单元图形；根据所述设计图像对所述扫描图像进行筛选，去除所述第一单元图形中由于制作工艺上的偏差所形成的干扰缺陷单元图形；其中，根据所述设计图像对所述扫描图像进行筛选的方法包括：根据对所述设计图像和所述扫描图像测量获取筛选值；提供与所述筛选值相对应的筛选条件；根据所述筛选值与所述筛选条件进行对比，判断各个所述第一单元图形是否为干扰缺陷单元图形；当所述第一单元图形为干扰缺陷单元图形时，将所述干扰缺陷单元图形自所述扫描图像中删除；所述筛选值包括：所述第一单元图形与其对应的所述第二单元图形的重叠率值、所述第二单元图形的特征尺寸值以及所述第二单元图形的图形间距值，其中所述重叠率值为所述第一单元图形和对应的所述第二单元图形的重叠面积与所述第二单元图形的面积的比值；所述筛选条件包括：重叠率阈值、特征尺寸阈值和图形间距阈值；根据所述筛选值与所述筛选条件对比，判断各个所述第一单元图形是否为干扰缺陷单元图形的方法包括：当所述重叠率值小于或等于所述重叠率阈值、所述特征尺寸值大于或等于所述特征尺寸阈值且所述图形间距值大于或等于所述图形间距阈值，则判断所述第一单元图形为干扰缺陷单元图形。

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