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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111755358B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010202728.8，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由森川胜洋;饱本正巳设计研发完成，并于2020-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：效率良好地执行的基板的液处理的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：具有基板的输入输出口并内装有第1液处理部和设置于比第1液处理部远离输入输出口的位置的第2液处理部的液处理模块和相对于液处理模块输入输出基板的输送装置。第1液处理部对由第1保持部保持的基板实施第1液处理，第2液处理部在第1液处理之前或之后对由第2保持部保持的基板实施第2液处理。输送装置具有可沿第1水平方向进退的基板保持部，使由基板保持部保持的基板沿第1水平方向进退，可将应在第1液处理部和第2液处理部处理的基板经由输入输出口向第1液处理部输入、将在第1液处理部和第2液处理部处理后的基板经由输入输出口从第1液处理部输出。

本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其具备：液处理模块，其具有基板的输入输出口，并内装有第1液处理部和设置于比所述第1液处理部远离所述输入输出口的位置的第2液处理部；以及输送装置，其相对于所述液处理模块输入输出基板，所述第1液处理部构成为，具有保持基板的第1保持部，并对由所述第1保持部保持着的基板实施第1液处理，所述第2液处理部构成为，具有保持基板的第2保持部，并在所述第1液处理之前或之后对由所述第2保持部保持着的基板实施第2液处理，所述输送装置构成为，具有能够沿着第1水平方向进退的基板保持部，通过使由所述基板保持部保持着的基板沿着第1水平方向进退，能够将应该在所述第1液处理部和所述第2液处理部处理的基板经由所述输入输出口向所述第1液处理部输入以及能够将在所述第1液处理部和所述第2液处理部处理后的基板经由所述输入输出口从所述第1液处理部输出，所述液处理模块还具有：至少1个分隔壁，其使所述第1液处理部内的气氛与所述第2液处理部内的气氛相互隔离；开闭器，其使设置于所述分隔壁的开口开闭；以及调换装置，其经由所述开口在所述第1液处理部与所述第2液处理部之间进行基板的调换。

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