恭喜应用材料公司任河获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利完全对准消去处理及来自此处理的电子装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113811988B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080032724.8，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权完全对准消去处理及来自此处理的电子装置是由任河;姜浩;梅裕尔·奈克设计研发完成，并于2020-05-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本完全对准消去处理及来自此处理的电子装置在说明书摘要公布了：描述了形成连接在两个方向上延伸的两条金属线的完全对准的过孔的方法。完全对准的过孔沿着两个方向与第一金属线和第二金属线对准。在与第一金属层电接触的第二金属层的顶部上图案化第三金属层。图案化的第三金属层与第二金属层的顶部未对准。使第二金属层凹陷以暴露第二金属层的侧面并移除未对准第三金属层的侧面的部分。
本发明授权完全对准消去处理及来自此处理的电子装置在权利要求书中公布了：1.一种形成多个完全对准的过孔的方法，所述方法包括以下步骤：图案化在第二金属层的顶部上的第三金属层，所述第二金属层与第一金属层电接触，图案化的第三金属层与所述第二金属层未对准，使得暴露所述第二金属层的所述顶部的一部分，图案化的第四金属层和图案化的第四蚀刻终止层用作用于图案化所述第三金属层的掩模，其中形成所述图案化的第四金属层和所述图案化的第四蚀刻终止层包括在所述第三金属层上沉积第四金属层和第四蚀刻终止层，使用硬掩模层和图案化的光刻胶来图案化所述第四金属层和所述第四蚀刻终止层；和使所述第二金属层的所述顶部凹陷以暴露与所述图案化的第三金属层对准的所述第二金属层的多个侧面并使所述第二金属层的顶部从所述第三金属层的底部凹陷一定距离。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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