恭喜东京毅力科创株式会社高山贵光获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利清洁方法和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117637431B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311642146.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权清洁方法和等离子体处理装置是由高山贵光;佐佐木淳一设计研发完成，并于2020-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洁方法和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种清洁方法和等离子体处理装置，用于抑制对载置台的损伤，并且去除沉积于载置台的外周部的沉积物。清洁方法为等离子体处理装置中的载置台的清洁方法，包括进行分离的工序和进行去除的工序。在进行分离的工序中，使用升降机构来使载置台与基板分离。在进行去除的工序中，在进行分离的工序之后，通过从高频电源向载置台供给高频电力来生成等离子体，从而去除沉积于载置台的沉积物。另外，在进行分离的工序中，载置台与基板的分离距离设定为形成于载置台的外周部周边的合成阻抗比形成于载置台的中心部正上方的合成阻抗低。
本发明授权清洁方法和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种清洁方法，是等离子体处理装置中的清洁方法，所述等离子体处理装置具备：处理容器；基板载置台，其设置于所述处理容器内；以及基板升降机构，其具备支承基板的升降销，所述清洁方法包括以下工序：工序a，控制所述基板升降机构来使升降销上升，以接受被搬入到所述处理容器内的基板假片；工序b，控制所述基板升降机构来使所述升降销的前端位于所述基板载置台的上方且比在工序a中接受所述基板假片的位置低的位置；工序c，在所述工序b之后，使用等离子体对所述处理容器内进行清洁；以及工序d，控制所述基板升降机构来使所述升降销上升，以向所述处理容器外搬出所述基板假片。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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