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龙图腾网恭喜包头市英思特稀磁新材料股份有限公司申请的专利一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119145016B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411667488.3，技术领域涉及：C25D5/12；该发明授权一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法是由周保平;解长波;刘健;许宝文设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法，涉及表面处理技术领域，在钕铁硼基材上电镀铜时，镀铜溶液中加入添加剂，添加剂为3‑吡啶甲酸及3‑吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物，3‑吡啶甲酸及3‑吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡啶的质量比在1:10到10:1之间，其中3‑吡啶甲酸及3‑吡啶甲酰铵的混合物的浓度在1‑20gL。本发明的添加剂促进金属离子在基材表面的均匀沉积，能够使得钕铁硼磁体在电镀时减少高低电流区的厚度差异，因此提高了铜层厚度分布的均匀性，从而提高电镀铜层整体的致密性，进而改善了铜层的抗腐蚀性能力。

本发明授权一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法在权利要求书中公布了：1.一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法，其特征在于：在钕铁硼基材表面上电镀铜时，镀铜溶液中加入添加剂，添加剂为3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物，3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡啶的质量比在1:10到10:1之间，其中3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物的浓度在1-20gL；包括以下步骤：步骤S10：将钕铁硼基材置于第一镀铜溶液中电镀，进行预镀铜，在钕铁硼基材表面形成预镀铜层，第一镀铜溶液中内含有添加剂，添加剂为3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物，3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡啶的质量比在1:10到10:1之间，其中3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物的浓度在1-20gL；步骤S20：将预镀铜后的钕铁硼基材置于第二镀铜溶液中电镀，进行加厚镀铜，在预镀铜层表面形成加厚镀铜层，第二镀铜溶液内含有添加剂，添加剂为3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物，3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡啶的质量比在1:10到10:1之间，其中3-吡啶甲酸及3-吡啶甲酰铵的混合物的浓度在1-20gL；步骤S30：将加厚镀铜的钕铁硼基材置于化学镀镍溶液中，在加厚镀铜层表面形成镍磷合金层，或者，将加厚镀铜的钕铁硼基材置于电镀镍磷合金溶液中，在加厚镀铜层表面形成镍磷合金层；在步骤S10中，第一镀铜溶液中各化学成分的质量浓度如下：铜离子：1.5-2.5gL；HEDP：80-150gL；碳酸钾：20-80gL；氢氧化钾：20-100gL；步骤S20中，第二镀铜溶液中各化学成分的质量浓度如下：铜离子：6-12gL；HEDP：80-200gL；碳酸钾：20-80gL；氢氧化钾：20-100gL；光亮剂：5-15mlL；辅助剂：5-15mlL。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人包头市英思特稀磁新材料股份有限公司，其通讯地址为：014000 内蒙古自治区包头市包头稀土高新区阿拉坦汗大街19号(稀土高新区科技产业园区A1-B1)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。