恭喜三星显示有限公司金相勋获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星显示有限公司申请的专利掩模组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113802090B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110652039.1，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩模组件是由金相勋;金宗范;姜延姝;朴钟圣;李相信;李丞赈;郑恩汀设计研发完成，并于2021-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模组件在说明书摘要公布了：一种掩模组件包括掩模和阻挡杆。所述掩模包括其中形成有开口的图案区域并且在第一方向上延伸。所述阻挡杆设置在所述掩模下面并且与所述掩模的第一侧部重叠。所述掩模进一步包括伪开口区域和开口区域。所述伪开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，并且其中形成有开口。所述开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，并且分别对应于所述伪开口区域。所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的开口数量小于所述图案区域中的每单位面积的开口数量。
本发明授权掩模组件在权利要求书中公布了：1.一种掩模组件，包括：掩模，包括形成有开口的图案区域，所述掩模在第一方向上延伸；和阻挡杆，设置在所述掩模下面，与所述掩模的第一侧部重叠，并且在所述第一方向上延伸，其中所述掩模进一步包括：伪开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，所述伪开口区域在其中形成有开口；以及开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，所述开口区域分别对应于所述伪开口区域，所述开口区域在其中形成有开口，沉积材料能够穿过所述开口区域中形成的所述开口，并且所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的所述开口的数量小于所述图案区域中的每单位面积的所述开口的数量。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星显示有限公司，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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