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龙图腾网恭喜广东科技学院申请的专利一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115922126B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310033365.3，技术领域涉及：B23K26/70；该发明授权一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法是由陈绒;唐联耀;武晓云;马丽心;郑清华;林文杰设计研发完成，并于2023-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法在说明书摘要公布了：本发明涉及电子玻璃刻蚀技术领域，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法，包括吸附平台、上光刻蚀器、下光刻蚀器及两个微孔气流机构，吸附平台的中部开设有光刻蚀空腔，上光刻蚀器和下光刻蚀器同轴地相对设置，上光刻蚀器和下光刻蚀器分别位于光刻蚀空腔的上下两侧，两个微孔气流机构分布于光刻蚀器的两侧。本发明能够实现对电子玻璃进行双面刻蚀，在光刻蚀时优化了电子玻璃的光刻蚀区域的平面度，提高了电子玻璃的光刻蚀精度和质量，且使得吸附平台的中部呈中空状，吸附平台的中部不需要设置横梁吸附结构，简化了吸附平台的结构。

本发明授权一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法在权利要求书中公布了：1.一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：包括吸附平台1、上光刻蚀器2、下光刻蚀器3及两个微孔气流机构4，吸附平台1的中部开设有光刻蚀空腔5，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3同轴地相对设置，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3分别位于光刻蚀空腔5的上下两侧，两个微孔气流机构4分布于上光刻蚀器2的两侧，吸附平台1用于吸紧电子玻璃17的边缘，两个微孔气流机构4用于向吸附平台1所吸附的电子玻璃17施加正压微气流，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3分别对电子玻璃17的两侧面进行光刻蚀；微孔气流机构4包括安装板6、设置于安装板6的平面度调节模组7、设置于平面度调节模组7的调节端的气压腔体8、连接于气压腔体8的下方的微孔体9及与气压腔体8连接的供气组件10，供气组件10与气压腔体8的内腔连通，微孔体9设置有多个微气流孔11，多个微气流孔11均与气压腔体8的内腔连通；上光刻蚀器2采用激光刻蚀器。

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