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龙图腾网恭喜丰联科光电(洛阳)股份有限公司申请的专利钼残靶再利用的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115971496B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310061501.X，技术领域涉及：B22F8/00；该发明授权钼残靶再利用的方法是由张雪凤;郭雅俊;李帅方;陈亚光;张泽洋;念雯雯设计研发完成，并于2023-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本钼残靶再利用的方法在说明书摘要公布了：本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种钼残靶再利用的方法，所述方法包括以下步骤：1将钼残靶切割为钼块；2将步骤1得到的钼块进行表面预处理；3将步骤2得到的钼块进行真空等离子喷涂；4将步骤3得到的钼块与钼粉混合装入胶套模具进行压制成型；5将步骤4得到的压制钼坯进行烧结；6热塑性变形步骤5得到的烧结钼坯，得到钼金属产品。本发明钼残靶再利用的方法钼残靶回收率达到95％以上，制备的钼金属产品纯度达到99.95wt％以上，满足靶材制备的指标要求，实现了靶材的循环利用，而且工艺简单，成本低廉，符合产业化推广使用的要求。

本发明授权钼残靶再利用的方法在权利要求书中公布了：1.一种钼残靶再利用的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将钼残靶切割为钼块；（2）将步骤（1）得到的钼块进行表面预处理；（3）将步骤（2）得到的钼块进行真空等离子喷涂；（4）将步骤（3）得到的钼块与钼粉混合装入胶套模具进行压制成型；（5）将步骤（4）得到的压制钼坯进行烧结；（6）热塑性变形步骤（5）得到的烧结钼坯，得到钼金属产品；步骤（1）所述的钼残靶纯度≥99.95wt%，致密度≥99%；步骤（1）所述的钼块尺寸为：厚度5-30mm，宽度5-100mm，长度5-500mm；步骤（3）所述的真空等离子喷涂是通过真空等离子喷涂设备在钼块表面喷涂一层厚度为0.1-0.3mm的高纯钼膜层；步骤（4）所述的钼粉的纯度≥99.95%，粒度为2.5-4μm；步骤（4）所述的钼块与钼粉的质量比为5-25：75-95；步骤（4）所述的压制成型过程包括：首先将钼块与钼粉依次装入橡胶模具，钼块在钼粉中分布均匀且完全被钼粉包裹，然后进行冷等静压成型，冷等静压成型工艺条件为：压制压力200-230MPa、保压时间5-10min，最后泄压、脱模，得到中间包裹有钼块的压制钼坯。

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