恭喜重庆金美新材料科技有限公司臧世伟获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜重庆金美新材料科技有限公司申请的专利一种电磁屏蔽膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222621478U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420505502.9，技术领域涉及：H05K9/00；该实用新型一种电磁屏蔽膜是由臧世伟;请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电磁屏蔽膜在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜包括：一种电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜包括：绝缘层，以及依次设置在绝缘层的一个表面的导电层、导电胶层和保护层；以及设置在所述导电层与导电胶层之间的第一反射层，其中，第一反射层的材质与所述保护层的材质不同，第一反射层的介电常数与保护层的介电常数的差值的绝对值大于1。本实用新型实施例通过第一反射层的材质与所述保护层的材质不同，第一反射层的介电常数与保护层的介电常数的差值的绝对值大于1，可以更好的反射电磁波，提高电磁屏蔽膜对电磁波的反射效率。
本实用新型一种电磁屏蔽膜在权利要求书中公布了：1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，所述电磁屏蔽膜包括：绝缘层10，以及依次设置在所述绝缘层10的一个表面的导电层11、导电胶层12和保护层13、以及设置在所述导电层11与所述导电胶层12之间的第一反射层14，其中，第一反射层14的材质与所述保护层13的材质不同，第一反射层14的介电常数与所述保护层13的介电常数的差值的绝对值大于1。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人重庆金美新材料科技有限公司，其通讯地址为：401420 重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号