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龙图腾网恭喜无锡尚积半导体科技股份有限公司申请的专利旋转式自清洁刻蚀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119108333B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411595601.1，技术领域涉及：H01L21/687；该发明授权旋转式自清洁刻蚀装置是由张陈斌;张超;宋永辉;王世宽设计研发完成，并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本旋转式自清洁刻蚀装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种旋转式自清洁刻蚀装置，包括工作室、介质罩、载台、载台、线圈、内罩、旋转驱动件、升降驱动件和顶升组件，内罩的底部设有遮边，遮边能够阻碍污染物进入工作室；内罩的表面附着有软质金属膜，能够可靠、高效地捕捉刻蚀过程中产生的污染物，从而保证刻蚀环境的清洁、保证晶圆表面处理的效果；通过旋转驱动件驱使载台旋转，能够提高覆膜均匀性和刻蚀均匀性；通过顶升组件使得内罩能够随载台旋转，既能够避免内罩与介质罩粘结、穿孔被堵塞，又能够甩落粘黏效果差的污染物，进一步保证腔内的环境清洁；内罩的外壁设有清洁件，通过清洁件旋转清扫介质罩，还能够实现腔壁自清洁，降低停机开箱的需求。

本发明授权旋转式自清洁刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种旋转式自清洁刻蚀装置，其特征在于，包括：工作室（110）和介质罩（120），所述介质罩（120）设于所述工作室（110）上，并连通所述工作室（110），所述介质罩（120）和所述工作室（110）之间形成晶圆刻蚀腔；载台（130），设于所述晶圆刻蚀腔内，用于承接晶圆；线圈（140），绕设于所述介质罩（120）外；内罩（200），设于所述介质罩（120）内，并悬于所述载台（130）上方，所述内罩（200）设置呈圆筒状，所述内罩（200）的筒壁上设有多个间隔分布的穿孔（202），所述内罩（200）靠近所述载台（130）的底部设有向内延伸的遮边（201）；旋转驱动件（310），用于驱使所述载台（130）旋转；升降驱动件（320），用于驱使所述载台（130）升降；所述工作室（110）上设有晶圆进出口（111），所述载台（130）处于低位时正对所述晶圆进出口（111），以便于接取晶圆，所述载台（130）处于高位时接近或者接触所述遮边（201），所述遮边（201）能够阻碍污染物进入所述工作室（110）；所述旋转式自清洁刻蚀装置还包括顶升组件（400），所述顶升组件（400）设于所述载台（130）上，用于顶起所述内罩（200）；其中，所述内罩（200）的表面附着有软质金属膜，所述软质金属膜能够粘黏刻蚀过程中产生的污染物；通过所述顶升组件（400）和所述旋转驱动件（310），所述内罩（200）能够相对所述介质罩（120）旋转，从而避免所述软质金属膜粘结所述内罩（200）和所述介质罩（120）、堵塞所述穿孔（202）；所述内罩（200）面向所述介质罩（120）的外壁设有清洁件；所述内罩（200）旋转时，所述清洁件作用于所述介质罩（120），能够清除附着在所述介质罩（120）上的污染物。

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