恭喜华海清科股份有限公司田芳馨获国家专利权
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龙图腾网恭喜华海清科股份有限公司申请的专利用于电涡流传感器的标定方法、测量方法、装置及设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119153350B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411612206.X,技术领域涉及:H01L21/66;该发明授权用于电涡流传感器的标定方法、测量方法、装置及设备是由田芳馨;路新春;王同庆;赵德文;刘杰设计研发完成,并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于电涡流传感器的标定方法、测量方法、装置及设备在说明书摘要公布了:本申请提供了一种用于电涡流传感器的标定方法、厚度测量方法、装置及化学机械抛光设备,该方法包括:在对晶圆进行化学机械抛光前,获取电涡流传感器的信号源产生的第一激励信号;在对晶圆进行化学机械抛光的过程中,获取电涡流传感器的信号源产生的第二激励信号,并获取电涡流传感器采集到的晶圆信号;根据第一激励信号和第二激励信号,对晶圆信号进行修正,得到修正后晶圆信号;建立根据修正后晶圆信号确定的标定信息与预先确定的晶圆厚度之间的映射关系,以对电涡流传感器进行标定。本方案提高了通过电涡流传感器测量得到的金属薄膜厚度的准确性。
本发明授权用于电涡流传感器的标定方法、测量方法、装置及设备在权利要求书中公布了:1.一种用于电涡流传感器的标定方法,其特征在于,包括:在对晶圆进行化学机械抛光前,获取电涡流传感器的信号源产生的第一激励信号以及采集到的第一基值信号;在对晶圆进行化学机械抛光的过程中,获取所述电涡流传感器的所述信号源产生的第二激励信号以及采集到的第二基值信号,并获取所述电涡流传感器采集到的晶圆信号;根据所述第一激励信号和所述第二激励信号,确定目标修正量;根据所述目标修正量对所述第一基值信号进行修正,得到修正后第一基值信号;确定所述晶圆信号相对于所述第二基值信号的信号变化量;根据所述修正后第一基值信号和所述信号变化量,确定修正后晶圆信号;建立根据所述修正后晶圆信号确定的标定信息与预先确定的晶圆厚度之间的映射关系,以对所述电涡流传感器进行标定。
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